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SK하이닉스이천공장, 이산화규소 등 화학물질 누출

게시자: Jeong Soo Kim, 2014. 7. 11. 오전 7:24   [ 2014. 7. 11. 오전 7:33에 업데이트됨 ]

SK하이닉스 이천공장에서 2014년 7월 5일 오전 8시 30분경 반도체 공정 라인에서 이산화규소 등 화학물질을 포함한 가스가 누출되어 공장안에서 작업을 하던 41명이 구초를 일으키고 이상증세를 호소하여 병원으로 옮겨져 치료를 받았다. 이산화규소 분진은 발적 및 통증을 동반한 자극을 유발할 수 있으며, 기도 자극 및 기침을 유발할 수 있다. 장기간 노출되면 규폐증 및 폐암이 발생할 수 있다. 
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